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dasgupta sudeb; kaushik brajesh kumar; pal pankaj kumar - spacer engineered finfet architectures

Spacer Engineered FinFET Architectures High-Performance Digital Circuit Applications

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Dettagli

Genere:Libro
Lingua: Inglese
Editore:

CRC Press

Pubblicazione: 06/2020
Edizione: 1° edizione





Note Editore

This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.




Sommario

PrefaceAbout the AuthorsChapter 1 ? Introduction to NanoelectronicsChapter 2 ? Tri-Gate FinFET Technology and Its AdvancementChapter 3 ? Dual-k Spacer Device Architecture and Its ElectrostaticsChapter 4 ? Capacitive Analysis and Dual-k FinFET-Based Digital Circuit DesignChapter 5 ? Design Metric Improvement of a Dual-k–Based SRAM CellChapter 6 ? Statistical Variability and Sensitivity AnalysisINDEX










Altre Informazioni

ISBN:

9780367573553

Condizione: Nuovo
Dimensioni: 9.25 x 6.25 in Ø 0.63 lb
Formato: Brossura
Pagine Arabe: 138
Pagine Romane: xvi


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